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金属与硅生成的化合物。
常分成两大类：(1)难熔金属硅化物，指周期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物，如硅化钛、硅化锆、硅化钽、硅化钨等；(2)贵金属和近贵金属硅化物，如硅化钯、硅化铂、硅化钴等。其共同特点是：熔点高（大都在1500℃以上），最低共熔温度高（大都在1000℃以上）。电阻率低(约为10-7Ω·m)，硬度高。
metallic silicides
多在超大规模集成电路中使用，如用作金属栅、肖特基接触、欧姆接触等。
制备方法主要是用淀积金属与硅的混合物烧结而成。淀积法主要有：蒸发、溅射、电镀、化学气相淀积等。
金属硅化物的特性是与酸反应生成硅烷。SiH4.
